一种电磁阀塑料线圈架密封结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于电磁阀技术领域,涉及一种电磁阀线圈架,尤其是涉及一种电磁阀塑料线圈架密封结构。
【背景技术】
[0002]电磁阀广泛应用于汽车、摩托车等机械领域,随着技术的发展和进步,生产成本逐步降低,其市场价格随之逐渐下降,而对电磁阀各方面的性能却提出了更高的要求。尤其当电磁阀应用于水、油等液态环境时,对其密封性能提出了更高的要求,因此,用于液态工况的电磁阀塑料线圈架密封结构的设计至关重要。
[0003]现有技术中,常用的电磁阀塑料线圈架密封结构多采用半圆形结构,为保证密封可靠,要求密封处的半圆结构半径较小,以保证密封处充分接触,然而在这种结构下的电磁阀塑料线圈架密封结构在模具注塑时极容易产生毛刺、变形、注不满等缺陷,导致密封处密封不好,出现漏油、渗水等问题,最终造成电磁阀产品故障甚至失效,产品合格率偏低?’另夕卜,当衔铁橡胶面与密封面接触时,接触面很小,容易导致衔铁橡胶面磨损,使得衔铁橡胶使用寿命相对较短。
【实用新型内容】
[0004]为了解决上述问题,本实用新型提供了一种电磁阀塑料线圈架密封结构,从而达到更好的密封效果。
[0005]本实用新型是通过如下技术方案予以实现的。
[0006]一种电磁阀塑料线圈架密封结构,包括线圈架,所述线圈架内为安装定位腔,所述安装定位腔底部封闭,并在底部中央设液体通道,所述液体通道顶端为密封型面,所述密封型面为锥面。
[0007]进一步地,所述密封型面的锥面倾角α为5?15°。
[0008]进一步地,所述密封型面的锥面倾角α为10°。
[0009]本实用新型的有益效果是:
[0010]本实用新型所述的一种电磁阀塑料线圈架密封结构,通过将密封型面设计成锥面,并采用较小的锥面倾角,一方面避免了模具成型时密封型面出现变形、注不满等缺陷,提高了电磁阀产品的合格率;另一方面增大了密封型面与衔铁橡胶面的接触面,能有效避免密封型面对衔铁橡胶面的损伤,延长了衔铁橡胶的使用寿命。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型的结构示意图。
[0012]图中:1-线圈架,11-密封型面,12-安装定位腔,13-液体通道。
【具体实施方式】
[0013]下面结合附图进一步描述本实用新型的技术方案,但要求保护的范围并不局限于所述。
[0014]本实用新型所述的一种电磁阀塑料线圈架密封结构,包括线圈架1,所述线圈架I内为安装定位腔12,所述安装定位腔12底部封闭,并在底部中央设液体通道13,所述液体通道13顶端为密封型面11,所述密封型面11为锥面,所述密封型面11的锥面倾角α为5 ?15° 。
[0015]实施例一
[0016]如图1所示的一种电磁阀塑料线圈架密封结构,当衔铁装入线圈架I的安装定位腔12中,衔铁橡胶面与密封型面11接触时,液体通道13顶端锥面形的密封型面11与衔铁橡胶面接触,衔铁橡胶在压紧力的作用下发生形变,密封型面11锥面倾角α为5?15°,密封型面11与衔铁胶面形成面接触,实现可靠密封,同时避免了衔铁橡胶面损伤。
[0017]实施例二
[0018]密封型面11的锥面倾角α为10°,即起到线接触作用,又能增加密封型面11与衔铁橡胶之间的接触面,防止锥面锥度过大对衔铁胶面造成非正常磨损。
[0019]上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的是让熟悉该技术领域的技术人员能够了解本发明的内容并据以实施,并不能以此来限制本发明的保护范围,凡根据本发明精神本质所作出的等同变换或修饰,都应涵盖本发明的保护范围内。
【主权项】
1.一种电磁阀塑料线圈架密封结构,包括线圈架(I),所述线圈架(I)内为安装定位腔(12),所述安装定位腔(12)底部封闭,并在底部中央设液体通道(13),所述液体通道(13)顶端为密封型面(11),其特征在于:所述密封型面(11)为锥面。2.根据权利要求1所述的一种电磁阀塑料线圈架密封结构,其特征在于:所述密封型面(11)的锥面倾角α为5?15°。3.根据权利要求1所述的一种电磁阀塑料线圈架密封结构,其特征在于:所述密封型面(11)的锥面倾角α为10°。
【专利摘要】本实用新型公开了一种电磁阀塑料线圈架密封结构,属于电磁阀技术领域,包括线圈架,所述线圈架内为安装定位腔,所述安装定位腔底部封闭,并在底部中央设液体通道,液体通道顶端为密封型面,密封型面为锥面。本技术方案通过将密封型面设计成锥面,并采用较小的锥面倾角,一方面避免了模具成型时密封型面出现变形、注不满等缺陷,提高了电磁阀产品的合格率;另一方面增大了密封型面与衔铁橡胶面的接触面,能有效避免密封型面对衔铁橡胶面的损伤,延长了衔铁橡胶的使用寿命。
【IPC分类】F16K31/06, H01F5/02
【公开号】CN204695898
【申请号】CN201520448424
【发明人】王印
【申请人】贵州新安航空机械有限责任公司
【公开日】2015年10月7日
【申请日】2015年6月26日