一种去疤膏药的制作方法

专利名称：一种去疤膏药的制作方法
技术领域：
本发明是涉及一种膏药，尤其是涉及一种去疤的膏药。
背景技术：
随着人们的业余生活不断的提高，人们总喜欢挑战一些高难度的业余生活，然而 在活动的过程中总避免不了一些不必要的磕磕碰碰，因此导致在肌肤上留下一些疤痕，影 响人们的整体形象，还有一些青少年由于青春期的原因，皮肤上总免不了出现有些青春痘， 粉刺之类的东西，影响青少年的整体形象，更严重时则影响他们的前途，导致家长和青少年 为之很是心烦。

发明内容
本发明的目的是提供一种去疤膏药，它能解决背景技术中做存在的问题，有效去 除人体肌肤上留下的疤痕，去除表面角质层，改善肌肤的更生能力和肤质，并同时改善细胞 组织，从而更生底层细胞，去除各种瑕疵，令肌肤再生。为了解决背景技术所存在的问题，本发明是采用以下技术方案它是由维E、珍珠 粉、维C、蜂蜜通过特殊工艺制作而成。本发明具有以下有益效果能有效去除人体肌肤上留下的疤痕，去除表面角质层， 改善肌肤的更生能力和肤质，并同时改善细胞组织，从而更生底层细胞，去除各种瑕疵，令 肌肤再生。
具体实施例方式本具体实施方式
采用以下技术方案它是由维E、珍珠粉、维C、蜂蜜通过特殊工艺 制作而成。本具体事实方式能有 效去除人体肌肤上留下的疤痕，去除表面角质层，改善肌肤 的更生能力和肤质，并同时改善细胞组织，从而更生底层细胞，去除各种瑕疵，令肌肤再生。
权利要求
一种去疤膏药，其特征在于它是由维E、珍珠粉、维C、蜂蜜通过特殊工艺制作而成。
全文摘要
一种去疤膏药，它涉及一种去疤膏药。它是由维E、珍珠粉、维C、蜂蜜通过特殊工艺制作而成；能有效去除人体肌肤上留下的疤痕，去除表面角质层，改善肌肤的更生能力和肤质，并同时改善细胞组织，从而更生底层细胞，去除各种瑕疵，令肌肤再生。
文档编号A61K9/06GK101953854SQ20091018152
公开日2011年1月26日 申请日期2009年7月20日 优先权日2009年7月20日
发明者高艳 申请人:高艳